Púdar Ocsaíd Sileacain

(Púdar Ocsaíd Sileacain)

Is mianra riachtanach í an shilice a fhaightear go nádúrtha sa domhan, inár bplandaí agus inár gcorp. Is eol dó tógáil cnámh a chur chun cinn, na fiacla a chosaint, agus cabhrú le collagen a fhoirmiú.

úsáideadh púdar ocsaíd sileacain in iarratais éagsúla lena n-áirítear leathsheoltóirí, snáithíní, spéaclaí, criadóireacht, agus níos mó. Tá tairiseach tréleictreach ard aige, friotaíocht meicniúil, agus roghnaíocht cheimiceach, rud a fhágann gur ábhar den scoth é le húsáid i micrileictreonaic agus i gcrómatagrafaíocht.

Cuirtear i láthair modh chun púdar ocsaíd sileacain a tháirgeadh a bhfuil achar dromchla sonrach BET aige sa raon ó 5 go 300 m2/g. Cuimsíonn an modh céim taiscthe ina ndéantar meascán púdar amhábhar ina bhfuil púdar ocsaíd sileacain a thaisceadh ar dhromchla foshraithe trí na cáithníní taiscthe a teaschóireáil.

Ansin déantar an púdar taiscthe a fhuaraithe go teocht idir 200 agus 400 céim C. Déantar an próiseas seo arís agus arís eile don chuid eile den phúdar taiscthe.

Soláthraítear gaireas chun an modh airgtheach a chur i bhfeidhm chun púdar ocsaíd sileacain a tháirgeadh. Tá an gaireas seo ainmnithe go ginearálta ag 1 agus folaíonn sé foirnéis imoibrithe 10 agus seomra sil-leagan 20 idirnasctha ag seoladán aistrithe 30 a bhfuil muffle 11 diúscartha ann.

Tá roinnt foirmeacha éagruthacha agus criostalach de dhé-ocsaíd sileacain ar fáil, ar féidir iad a tháirgeadh trí úsáid a bhaint as próisis LPCVD agus PECVD. Is gnách go mbíonn dé-ocsaíd sileacain éagruthach mar thréith ag an gcomhordú tetrahedral de gach ceann dá adamh go ceithre adamh ocsaigine.

Is gnách go mbíonn riail bannaí dúbailte ag an bhfoirm criostalach de shilice, ina bhfuil gach adamh den mhóilín nasctha go comhfhiúsach le dhá adamh ocsaigine in aice láimhe. Déanann an struchtúr tetrahedral seo idirdhealú a dhéanamh ar dhé-ocsaíd sileacain criostalach ó dhé-ocsaíd charbóin, atá níos líneach sa nádúr.

(Púdar Ocsaíd Sileacain)