Szilícium-nitrid por

(Szilícium-nitrid por)

A szilícium-nitrid por fehér, magas olvadáspontú szilárd anyag, amely kémiailag inert és termodinamikailag stabil. Ez egy fontos anyag az alkalmazások széles körében, amelyek kiváló szobahőmérsékletű és magas hőmérsékletű mechanikai tulajdonságokat, oxidáció- és kúszásállóságot igényelnek.

A kiemelkedő keménységéről és szilárdságáról ismert si3n4 por ideális anyag olyan mechanikai alkalmazásokhoz, amelyek rendkívüli szilárdságot, alacsony hőtágulást és hosszú élettartamot igényelnek. A tulajdonságok egyedülálló kombinációja rendkívül kívánatos kerámiává teszi csapágyakban, turbinalapátokban és egyéb szerkezeti elemekben.

A SINX STX-100 MŰSZAKI KERÁMIA (Si3N4) POR az egyik legfejlettebb és legprecízebb műszaki kerámia, amely ma elérhető. A mechanikai, termikus és elektromos tulajdonságok legjobb kombinációját kínálja bármely kerámia kategóriájában.

Sűrű és erős, a technológiai kerámiák közül a legmagasabb törésállósággal rendelkezik. Kopás- és korrózióálló, így kiváló választás nagy terhelést és zord környezetet igénylő alkalmazásokhoz.

A Si3N4 egy népszerű passziváló réteg a félvezetőiparban, mert kisebb a diffúziós ellenállása a vízzel és az alkáli ionokkal szemben, mint a szilícium-dioxid. Nagyon jó dielektrikum és kiváló hővezető is.

A Si3N4 felületét jellemzően fluorplazmával maratják. Általában SF6-alapú, CF4-alapú és CHF3-alapú plazmákat használnak. Az SF6 alapú plazmák előnye a nagyon gyors marási sebesség, ami különösen hasznos anizotróp SiN felületeknél.

A SiN CMP-ben történő maratáshoz használt iszapnak erősen szelektívnek kell lennie az oxideltávolítás minimalizálása és az ostyaréteg jó egyenetlenségének megőrzése érdekében. Ehhez nagyon alacsony SiN eltávolítási sebességre van szükség, és ideális esetben rendkívül szelektív nitrid-iszap használatával érhető el.

(Szilícium-nitrid por)