სილიციუმის ნიტრიდის ფხვნილი

(სილიციუმის ნიტრიდის ფხვნილი)

სილიციუმის ნიტრიდის ფხვნილი არის თეთრი, მაღალი დნობის წერტილის მყარი ნივთიერება, რომელიც ქიმიურად ინერტული და თერმოდინამიკურად სტაბილურია. ის მნიშვნელოვანი მასალაა ფართო სპექტრის გამოყენებისთვის, რომელიც მოითხოვს შესანიშნავ ოთახის ტემპერატურასა და მაღალი ტემპერატურის მექანიკურ თვისებებს, დაჟანგვისა და ცოცვისადმი მდგრადობას.

ცნობილია თავისი განსაკუთრებული სიმტკიცითა და სიმტკიცით, si3n4 ფხვნილი იდეალური მასალაა მექანიკური გამოყენებისთვის, რომელიც მოითხოვს უკიდურეს სიმტკიცეს დაბალი თერმული გაფართოებით და ხანგრძლივი მომსახურების ხანგრძლივობით. მისი უნიკალური თვისებების კომბინაცია მას უაღრესად სასურველ კერამიკად აქცევს საკისრებში, ტურბინის პირებსა და სხვა სტრუქტურულ კომპონენტებში გამოსაყენებლად.

SINX STX-100 ტექნიკური კერამიკული (Si3N4) ფხვნილი დღესდღეობით ერთ-ერთი ყველაზე მოწინავე და ზუსტი ტექნიკური კერამიკაა. ის თავის კლასში არსებულ ნებისმიერ კერამიკასთან შედარებით გთავაზობთ მექანიკური, თერმული და ელექტრული თვისებების საუკეთესო კომბინაციას.

მკვრივი და მტკიცე, მას ნებისმიერ ტექნოლოგიურ კერამიკასთან შედარებით ყველაზე მაღალი მოტეხილობისადმი სიმტკიცე აქვს. ის ასევე ცვეთასა და კოროზიისადმი მდგრადია, რაც მას შესანიშნავ არჩევნად აქცევს მძიმე დატვირთვებისა და მკაცრი გარემო პირობების მქონე აპლიკაციებისთვის.

Si3N4 ნახევარგამტარული ინდუსტრიის პოპულარული პასივაციის ფენაა, რადგან მას წყლისა და ტუტე იონების მიმართ უფრო დაბალი დიფუზიური წინააღმდეგობა აქვს, ვიდრე სილიციუმის დიოქსიდს. ის ასევე ძალიან კარგი დიელექტრიკი და შესანიშნავი თბოგამტარია.

Si3N4-ის ზედაპირი, როგორც წესი, ფტორის პლაზმის გამოყენებით იჭედება. ხშირად გამოიყენება SF6-ზე, CF4-ზე და CHF3-ზე დაფუძნებული პლაზმები. SF6-ზე დაფუძნებულ პლაზმას აქვს ძალიან სწრაფი დაჭეჭვის სიჩქარის უპირატესობა, რაც განსაკუთრებით სასარგებლოა ანიზოტროპული SiN ზედაპირებისთვის.

SiN CMP-ში გრავირებისთვის გამოყენებული სუსპენზია უნდა იყოს მაღალსელექციური, რათა მინიმუმამდე იქნას დაყვანილი ოქსიდის მოცილება და შენარჩუნდეს ვაფლის კარგი არაერთგვაროვნება. ეს მოითხოვს SiN-ის მოცილების ძალიან დაბალ სიჩქარეს და იდეალურ შემთხვევაში მიიღწევა მაღალსელექციური ნიტრიდური სუსპენზიის გამოყენებით.

(სილიციუმის ნიტრიდის ფხვნილი)