Tum ALN aluminiumnitrid keramisk skiva Bra värmechockbeständighet Hög värmeledningsförmåga

Översikt över aluminiumnitridskivor

Lätta aluminiumnitrid (AlN) keramiska skivor, symbolen för utveckling inom vetenskapliga forskningsprodukter, är hyllade för sina exceptionella termiska, elektriska och mekaniska byggnader. Dessa skivor, ett bevis på banbrytande innovation, används i stor utsträckning inom olika industrier, särskilt i applikationer som kräver högpresterande material för effektiv värmeavledning, elektrisk isolering eller strukturell integritet.

Specifikationer för aluminiumnitridskivor

Specifikation av aluminiumnitridskiva:

Fast egendom	Typisk specifikation
Material Sammansättning	AlN (aluminiumnitrid)
Värmeledningsförmåga	170-220 W/m·K
Värmeutvidgningskoefficient	~4.5-5.0 ppm/°C (liknande kisel)
Dielektrisk styrka	>20 kV/mm
Dielektrisk konstant (1 MHz)	~ 8.4 - 9.6
Volymresistivitet	>10^14 Ω·cm vid 25°C
Mekanisk styrka (böjning)	~350-450 MPa
Hårdhet (Vickers)	~12-14 GPa
Densitet	~3.26 g/cm³
porositet
Drifttemperaturens omfång	-269 ° C till + 1000 ° C
Kemisk stabilitet	Utmärkt motståndskraft mot syror, alkalier och smälta metaller
Ytfinish	Kan poleras till optisk kvalitet eller lämnas med en bearbetad yta
Mått	Anpassningsbar; vanliga diametrar sträcker sig från några millimeter till flera centimeter
Tjocklek	Anpassningsbar; varierar vanligtvis från 0.5 mm till flera millimeter

Funktioner hos aluminiumnitridskivor

Överlägsen värmeledningsförmåga: AlN-keramiska skivor uppvisar en utmärkt värmeledningsförmåga på 170–220 W/mK, vilket överträffar material som aluminiumoxid (Al₂O₃) i applikationer som kräver sofistikerad värmeövervakning.

Enastående elektrisk isolering: Trots sin höga termiska effektivitet bibehåller AlN-skivor fenomenal elektrisk isolering, vilket gör dem perfekta för elektronisk kapsling och halvledarapplikationer som kräver hög dielektrisk hållfasthet.

Minskad termisk tillväxt: Med en termisk utvecklingskoefficient (CTE) som liknar kisels, minskar AlN-skivor termisk stress i kombination med kisel i digitala enheter, vilket säkerställer tillförlitlig effektivitet.

Hög kemisk säkerhet: Dessa skivor, ett tecken på tillförlitlighet, är mycket immuna mot smältmetaller, syror och antacida, vilket gör dem robusta i de mest brutala och destruktiva miljöer.

Tillämpningar av lätta aluminiumnitridskivor

Elektronik och halvledare

Substrat: AlN-keramiska ark används som substrat för att placera elektroniska komponenter i kraftmoduler, lysdioder, laserdioder och RF-enheter. Dessa delar genererar vanligtvis avsevärd värme under procedurer. AlN:s höga värmeledningsförmåga säkerställer tillförlitlig värmeavledning, vilket ökar prestandan och livslängden för dessa verktyg.

Varma svängar: AlN-skivor är effektiva kylflänsar, kyler halvledare och andra värmekänsliga delar för att bibehålla optimala driftstemperaturer.

Isolatorer: Inom halvledartillverkning fungerar AlN-keramiska ark som isolatorer, vilket ger elektrisk isolering samtidigt som de bidrar till effektiv värmeöverföring.

Bilindustrin

Sensorskydd: AlN-skivor skyddar fordonets sensorenheter från extrema ekologiska förhållanden, såsom värme i avgassystem eller frätande vätskor i bränsleledningar. Dessa problem kan försämra sensorenheternas prestanda. AlN:s höga värmeledningsförmåga och kemiska stabilitet säkerställer dock deras tillförlitliga drift.

Tändutrustning: AlN-skivor används i tändsystem som måste tåla höga temperaturer och erbjuda god elektrisk isolering.

Telekommunikationer

Mikrovågskomponenter: AlN-skivor används i mikrovågsutrustning på grund av deras låga dielektriska förlust och utmärkta termiska stabilitet, vilket är avgörande för att bibehålla signalstabilitet vid höga frekvenser.

Satellitkommunikationsutrustning: Deras lätta vikt och förmåga att motstå extrem värme gör dem perfekta för satellitkomponenter, vilket förbättrar integriteten hos rymdbaserade kommunikationssystem.

Klinisk utrustning

Biokompatibla implantat: AlN-porslin används i kliniska implantat eftersom de är biokompatibla och rostbeständiga, vilket gör dem lämpliga för långvarig användning i kroppen.

Diagnostiska verktyg: AlN-skivor ger stabila termiska och elektriska egenskaper vid analys av bilddiagnostik och andra kliniska verktyg, vilket garanterar noggrann och regelbunden prestanda.

Andra applikationer

Optoelektronik: AlN:s öppenhet vid specifika våglängder gör det lämpligt för optoelektroniska enheter som optiska fönster i lasersystem och linser i bildenheter. Dessa enheter kräver produkter som kan släppa igenom ljus utan distorsion, och AlN:s optiska egenskaper gör det till ett idealiskt val.

Laserteknik används som substrat eller del av lasersystem, och drar nytta av dess värmeledningsförmåga och mekaniska seghet.

Högtemperaturugnar: AlN-skivor används i ugnar och brännugnar, vilket utnyttjar deras termiska säkerhet och motståndskraft mot kemisk nedbrytning.

Företagsprofil

NANOTRUN(www.rboschco.com) är en pålitlig global leverantör och tillverkare av kemiskt material med över 12 års erfarenhet av att tillhandahålla kemikalier och nanomaterial av superhög kvalitet, inklusive boridpulver, nitridpulver, grafitpulver, sulfidpulver, 3D-utskriftspulver , etc.

Företaget har en professionell teknisk avdelning och kvalitetsövervakningsavdelning, ett välutrustat laboratorium och utrustat med avancerad testutrustning och kundservicecenter efter försäljning.

Om du letar efter högkvalitativa aluminiumnitridskivor är du välkommen att kontakta oss eller klicka på de produkter som behövs för att skicka en förfrågan. 

Betalningsvillkor

L/C, T/T, Western Union, Paypal, Kreditkort etc.

Leveransperiod

Till sjöss, med flyg, med express, som kunderna begär.

Vanliga frågor om aluminiumnitridskivor

F1: Vad väger aluminiumnitrid (AlN)?

A1: Aluminiumnitrid är ett keramiskt material känt för sin utmärkta värmeledningsförmåga, elektriska isolering, bostäder eller kommersiella egenskaper och låga värmetillväxtkoefficient. Det används ofta i elektroniska enheter, halvledare och andra högpresterande applikationer.

F2: Vad är den vanliga värmeledningsförmågan för AlN keramiska skivor?

S2: Värmeledningsförmågan hos AlN-keramiska skivor kan variera från 170 till 220 W/m · K, beroende på renhet och produktionsprocedurer.

F3: Var använder man vanligtvis AlN-keramiska skivor?

A3: Vanliga applikationer består av substrat i kraftkomponenter, lysdioder, laserdioder, RF-verktyg, fordonssensorer, tändningsdelar, mikrovågsverktyg, satellitinteraktionssystem, medicinska implantat och analysverktyg.

F4: Kan AlN keramiska skivplattor skräddarsys?

A4: Ja, AlN keramiska skivor kan vanligtvis anpassas med avseende på mått, densitet och ytbeläggning för att uppfylla särskilda applikationskrav.

F5: Exakt hur tillverkas AlN-keramiska skivplattor?

S5: Produktionen omfattar många åtgärder, inklusive pulversyntes, skapande, sintring vid höga temperaturer och bearbetning. Den slutliga produktens högsta kvalitet beror i hög grad på renheten hos basmaterial och kontroll över bearbetningsspecifikationer.